一文帶你詳細了解粒徑分析儀的兩大主要測量技術
點擊次數：1471次 更新時間：2021-09-13
粒徑分析儀是一種測量、呈現和報告特定粒子或者液滴群粒度分布的分析儀。粒度分析儀在個別以及方法特定邊界條件下，按照特定的測量方法（例如：圖像分析、激光背向散射或激光衍射）運行。由于微觀晶體粒度較小，因此通常需要使用更加復雜的分析設備。常規粒度測量方法包括圖像分析、激光背向散射、激光衍射或篩分分析法。所有粒度分析儀根據其特定的測量方法為同一個粒子提供不同值。粒度分析儀在工藝開發以及粒子系統質量控制方面起到重要作用，可建立起高效的工藝和取得高質量的最終產品。
（1）聚焦光束反射測量技術：
當過程中存在顆粒時，使用采用FBRM技術的探頭式儀器，可實時進行粒徑與粒數分析。獲取關于顆粒粒徑、粒數與形狀的實時測量結果：
·無需取樣或旁通回路，可直接在工藝中測量；
·研究顆粒的特定區間（細粒與粗粒）；
·研究不透明或半透明漿體與乳液中的顆粒；
·直接觀察工藝變化對顆粒產生的影響；
·可監測大多數工藝濃度條件下的0.5-1000μm顆粒。
（2）顆粒錄影顯微鏡技術：
PVM在當前工藝條件下，通過高分辨率的錄影顯微鏡，實時原位監測顆粒，氣泡，以及液滴。
粒徑分析儀的注意事項：
（1）探頭插入角度最好是30°-60°，與顆粒流動方向一致，確保有代表性的顆粒經過探頭窗口，消除盲區可能性，降低探頭粘附可能性。
（2）識別和避免窗口粘附，避免粘附的方法，確保*的探頭方向–流體沖刷探頭窗口，在軟件中始終選擇“stuckparticlecorrection，拔出探頭，清洗探頭。
（3）選擇正確的平滑度，過度平滑，導致不能呈現原始數據的趨勢。
（4）選擇好的弦長計算模型。